アルミナ、またはアルミニウムオキシデは、純度の範囲で製造することができます。現代の産業適用のために使用される典型的な等級は、特性を高めるために設計された添加剤と99.5%から99.9%である。加工やネット形状など、多種多様なセラミック加工方法を適用し、部品のサイズや形状を幅広く生み出すことができます。高純度アルミナ粉末から作られ、冷間等圧子プレス、高温焼結および精密仕上げによって処理され、セラミックエンドエフェクターは、アルミナ、またはアルミニウムオキシデに対する寸法許容に達することができ、純度の範囲で製造することができます。現代の産業適用のために使用される典型的な等級は、特性を高めるために設計された添加剤と99.5%から99.9%である。加工やネット形状など、多種多様なセラミック加工方法を適用し、部品のサイズや形状を幅広く生み出すことができます。高純度アルミナパウダーから作られ、冷間等圧子プレス、高温焼結および精密仕上げによって処理され、セラミックエンドエフェクターは±0.001 mm、表面仕上げRa 0.1、耐熱抵抗1600°Cに寸法許容に達する可能性があります。キャビティ付きセラミックエンドエフェクターは、独特なセラミック接着技術により、800°Cの高温で動作することができます。高温耐性、耐食性、耐摩耗性、絶縁材の特徴により、セラミックは高温、真空、腐食性ガスの条件を持つ多くの種類の半導体製造装置で長時間働くことができます。

当社のセラミックアームは、高純度のアルミニウムセラミック材料で作られており、冷間等圧子プレス、高温焼結性、正確な許容差+/- 0.001mm、表面仕上げはRa0.1、温度抵抗は1600度です。独自のセラミックボンディング技術を持つセラミックアームを製造しています。中空の設計の陶磁器の腕は結合後800度の高温で働くことができる。

超薄型セラミック真空ウエハチャックは、半導体ウエハ処理の歩留り管理を向上させます。低面接触構成により、裏側パーティクルが高精度アプリケーションのウェーハジオメトリに悪影響を及ぼすリスクを最小限に抑えます。

アルミナは、次の用途で広く使用されているセラミック材料です。

電気絶縁体、ガスレーザー用耐食部品、半導体加工装置用(チャック、エンドエフェクタ、シールリングなど)

電子管のための電気絶縁体。

高真空・極低温装置、核放射線装置、高温で使用する機器の構造部品。

耐食性コンポーネント、ポンプ用ピストン、バルブおよび注入システム、サンプリング血液弁。

熱電対管、電気絶縁体、粉砕媒体、ねじ式管。

私たちはあなたの要件にカスタマイズすることができます。以下のサイズは、いくつかの例です。

アルミナは、エンジニアリングセラミックスのファミリーで最も費用対効果が高く、広く使用されている材料です。この高性能な技術的な等級の陶磁器がなされる原料は容易に利用でき、適法に価格が、作製されたアルミナの形の費用のための良い価値をもたらす。特性と魅力的な価格の優れた組み合わせで、それは、ファイン穀物の技術的なグレードのアルミナは、アプリケーションの非常に広い範囲を持っていることを驚くべきことではありません。

半導体産業向けセラミック製品を幅広く提供

主なプロパティ

http://ja.jldceramics.com/